产品介绍
FT-300T eX
12英寸Thermal ALD设备?
产品介绍
FT-300T eX系列是我公司自主研发的热原子层沉积(Thermal Atomic Layer Deposition)设备,以高产能PEALD设备核心技术为基础,针对金属薄膜沉积的特殊性,对反应腔模块及关键部件优化设计,实现成本更低,纯度更高的金属薄膜的沉积,可用于沉积AlOx/AlN/SnOx/TiN等多种金属薄膜材料。在7nm及以下制程中有着广泛的应用。
产品特点
FT-300T eX
12英寸Thermal ALD设备
产品特点
- 理想的热原子层沉积系统
- 更快速的脉冲及吹扫,实现更高的产能
- 精准的化学源剂量控制,实现工艺长期稳定性
- 独特的温控设计,实现更高纯度的薄膜
- 维护简便,易耗件生命周期长,清洗成本低